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半导体生产过程中的某些工艺涉及气体与半导体基片的反应，比如沉积工艺和刻蚀工艺，气体的流量将对工艺结果产生重要影响。为了使生产的半导体获得较高的良品率，必须对流入反应腔室的气体流量进行精确控制，尤其是随着半导体工艺集成度的不断提高，对气体流量的误差要求也进一步提高。
因而随着真空、半导体等领域对微小气体流量控制的需求，热式质量流量传感器因其高精度的特点被广泛采用。相比体积流量测量方式，热式质量流量传感器不依赖介质密度变化，避免了环境温度变化带来的测量偏差。热式质量流量传感器主要由毛细管、热源、温度传感器三部分组成，气体经过上游热源并带走热量，使下游热源初始温度变化，通过温度传感器获取上下游热源温差，此温差与流体质量流量成线性关系。工采网推荐使用瑞士IST 热式质量流量传感器 － MFS02。
瑞士IST 热式质量流量传感器 － MFS02对于大流量与快速响应的应用，CTA模式下有极高分辨率适用于通过桥式电路测量极低流量与泄漏检测应用且对对腐蚀性气体和蒸气具有高耐化学性不同的灵敏度与电路拓扑结构可供选择，支持用户订制，可测量流向。
瑞士IST 热式质量流量传感器MFS02 参数：
原文标题 : 热式质量流量传感器在半导体生产过程中的流量控制技术方案
